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第12章 光刻机问题（第1页）

坑是不可能坑的，因为张尧自己也用了。反正爱怎么就怎么着吧，就算出点岔子，秃也是三个人一起秃。

不过张尧喊姜复回来自然不可能单纯为了这件事。

张尧看着姜复问道:“5nm光刻机的进度，你那边怎么样了？”

姜复摇了摇头道:“有点问题，有些环节想要绕过其他国家的专利有点难。”

王浩好奇道:“真有这么难吗？连你出马都有问题？”

“不是一般的难！”

说起光刻机华夏人都不陌生，大多数人了解到这种机器还是因为前几年的华威断供事件。

光刻机解释起来不复杂，它主要用于将芯片设计图案转移到硅晶圆上。

工作原理类似于底片曝光洗印机，将掩膜上的图案通过光刻过程转移到硅晶圆上，形成芯片。

这听上去并不是很难，你甚至可以说它是一件高级作图机器。

但如果把它换成纳米级别的呢？

这个对精度的要求是不是就恐怖了！

光刻机包含大量的机械部件和电子元件，需确保每一个部件的稳定性和精确度。组装过程中，机器内部温度的控制需达到千分之五度的精度，这就要求有高效的冷却方法和精准的测温传感器。

以SmEE的光刻机为例，其包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，组装过程对精度和稳定性要求极高。

光刻机对精密性的要求极高，运动控制精度和位置测量精度需达到纳米级别。

例如，光刻机中的两个工件台，一个载底片，一个载胶片，需始终同步运动，且误差控制在2纳米以下。

越高级的光刻机在这一步要求越高，这要求它具备极高的运动控制精度和稳定性，同时要控制温湿度和空气压力，以保证对焦的准确性。

极紫外光刻机需要极高的能量光源，而EUV光刻机的能源转换效率只有0.02%左右。

EUV光刻机使用的光源和透镜都必须能够承受高能量的照射，且光刻机中的光学镜片需要特殊的材料来制造，以实现高精度的成像。

另外还有光刻胶和掩模技术，热管理，光学镜片等等难题。

光刻机的组成和技术难点涵盖了机械、电子、光学，材料等多个领域，对技术的要求极高。

它几乎是整个人类文明发展以来所有高精尖技术的结合体，是半导体工业皇冠上最璀璨的明珠。

它不是一个国家制备出来的，而是一群国家的高科技汇聚在一起制成的。

包括了荷兰精密工程和光学技术，米国的软件、算法和某些高端部件，小日子国的半导体制造，棒子国的技术优化等等。

华夏进入这个领域的时间已经比较晚了，但就算这样，华夏依然是世界上能独立制造光刻机的国家之一，而且在中低端市场份额已经超过一半。

只不过在高端市场上这些国家防的很死，连卖都不卖给华夏，更别提技术授权了！

张尧之前有想过用锂负极电池专利来交换这些东西，但想了想还是放弃了。

不值得！

最关键的算法和零部件国内目前搞不定，就算勉强换了过来大概也是个空壳。

还是得靠自己！

张尧这样问姜复，自然不是耍他玩，而是想把这方面的钥匙交给他。

是的，张尧有办法！

其实这个问题他在刚上大学的时候就考虑过，那个时候研究的车床就是为了制造能用在类似于光刻机这类顶级仪器的零部件。

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